NANOARC AINULAADSUS

NANOARC annab tööstuslikule nanotehnoloogiale uue tähenduse, liikudes kompositsioonipõhistest materjalidest kaugemale. Meie alla 20 nm ligandivabad nanoosakesed pakuvad võrratut jõudlust ainulaadse kolmeosalise lähenemisviisi abil:

1. Aatomvõretehnika – sidemete, elektrontiheduse ja defektstruktuuride täpne kontroll aatomitasandil

2. Geomeetria optimeerimine – sfäärilised, õõnsad ja fullereenvormid maksimeerivad pindala, mehaanilist vastupidavust ja ligipääsetavust

3. Kvantne piiramine – alla 20 nm mõõtmed avavad suurepärased optilised, elektroonilised ja katalüütilised omadused

Tulemus: materjalid, millel on 30–300% suurem funktsionaalne efektiivsus grammi kohta, rohkem aktiivseid aatomeid, väiksem materjalikulu ja mis on valmis otseseks tööstuslikuks integreerimiseks.

LÄBIMURDE MATERJALID JA PEAMISED EELISED

1. FULLEREEN ZnO ja SiC (<10 nm)

• TSINKFULLERIIT: Täiustatud fotokatalüütiline, antimikroobne ja UV-kiirgust blokeeriv toime

• SILITSEENKARBIID: Kõrgtemperatuurilised, kiirguskindlad ja kulumiskindlad rakendused

• TÖÖSTUSLIKUD EELISED: Mitmeotstarbelised, ligandivabad nanoosakesed katete, komposiitide ja elektroonika jaoks, millel on ülim efektiivsus

2. POOLKERAKUJULINE ÕÕNES CaO (<20 nm)

• Õõnes struktuur maksimeerib pinna reaktsioonivõimet ja termilist stabiilsust

• TÖÖSTUSLIK KASU: Kiiremad reaktsioonid, tõhus süsiniku püüdmine, biodiisli katalüüs ja väiksem materjalikulu

3. TÄISKERA KULD (<10 nm, violetne-roosa)

• Võretehnoloogia ja kvantpiiramise abil võimendatud tugev plasmooniline reaktsioon

• TÖÖSTUSLIK KASU: Ülitundlikud andurid, fototermilised teraapiad ja otsese funktsionaliseerimisega täiustatud katted

MIKS VALIDA NANOARC

• TAASPROTSEERITUD KVALITEET: Alla 10 nm ja alla 20 nm ühtlus tagab ühtlase võrestruktuuri.

• MITMEKÜLGNE TÖÖTLEMINE: Ühildub sol-geel, aurfaasi ja malli abil tehtavate tehnikatega.

• MATERJALI SÄÄST: Kuju ja võre kontroll vähendab laadimisvajadust.

• ÜHENDA JA KASUTAGE: Otsene integreerimine katetesse, komposiitidesse, katalüsaatoritesse ja anduritesse.

STRATEEGILISED EELISED

• Suurenda jõudlust ilma keemilist koostist muutmata – kiirem kasutuselevõtt, väiksem risk

• Kiirendatud regulatiivse heakskiidu saamine – kasutades tõestatud keemilisi koostisosi

• Modulaarne integratsioon – sobib olemasolevatele tootmisliinidele

• Intellektuaalomandi võimalused – patenteeritud võrekonstruktsiooniga struktuurid

• Täiustatud pinna funktsionaalsus – kvant- ja võrepõhine aktiivsus katalüüsi, sensori ja funktsionaliseerimise jaoks

NANOARCi eelis

Ligandita, võre abil konstrueeritud, alla 20 nm nanoosakesed, mis pakuvad:

• Suurem efektiivsus grammi kohta

• Laiendatud tööstuslik funktsionaalsus

• Väiksem materjali kasutus ja tegevuskulud

• Otsene rakendatavus tööstusprotsessides

NANOARC esindab järgmise põlvkonna nanotehnoloogiat, kus geomeetria, võre ja kvantefektid kombineeruvad, et pakkuda mõõdetavaid ja suure mõjuga lahendusi.

AATOOMILISELT MUUDATUD 0D PALLAADIUM (Pd)

NANOARKITEKTUUR: ~ 5 nm sfäärilised ligandivabad nanoosakesed

PINDALA (BET): ~520 000 cm²/g

VÄRVUS: Tumehall kuni must nanopulber

PUHTUS: ≥99,9% Pd

KUUMAKINDLUS: Kuni 1554 °C (2829 °F)

PINDA LIGIPÄÄSETAVUS: 100% aktiivne pind ilma ligandide või stabilisaatoriteta

OSAKESTE DISPERSIOON: Hästi dispergeeritud primaarosakesed minimaalse agregatsiooniga inertses säilitamises. Säilitab dispersiooni reaktsioonitingimustes ilma paakumiseta, säilitades aktiivse pinna ja katalüütilise jõudluse

RAKENDUSED:

• Hüdrogeenimine ja peenkeemiline süntees

• Süsinik-süsinik sidestusreaktsioonid (Suzuki, Heck, Sonogashira)

• Elektrokatalüüs ja kütuseelementide reaktsioonid

• Vesiniku tuvastamise ja säilitamise materjalid

• Toetatud katalüsaatorid tööstus- ja laboriprotsesside jaoks

• Lisand täiustatud nanomaterjalidele ja katalüütilistele komposiitidele

KATALÜÜTILINE JÕUDLUS:

• Tüüpiline käibesagedus (TOF): 1,5×–3× kõrgem kui tavalistel Pd nanopulbritel (kuni ~5×, olenevalt reaktsioonitingimustest)

• Kiirem reaktsioonikineetika koos parema selektiivsusega hüdrogeenimisel ja süsinik-süsinik sidestusreaktsioonidel

• Võimaldab Pd sisalduse vähendamist 30–60%, säilitades samal ajal samaväärse või parema katalüütilise jõudluse

STABIILSUS: 

• Paagutamise suhtes vastupidav standardsetes reaktsioonitingimustes

• Annab katalüsaatori eluea 2×–10× pikemaks võrreldes tavapäraste Pd nanopulbritega

• Tagab kõrge reprodutseeritavuse mitme reaktsioonitsükli jooksul

TOIMIVUSE EELIS:

• ~2× suurem kasutatav pindala

• 1,5×–3× suurem katalüütiline aktiivsus (TOF)

• 2×–10× pikem tööstabiilsus

• Väiksem väärismetallide tarbimine ja parem kulutõhusus

OHUTUS JA KÄITLEMINE: Käsitseda tõmbekappi all või inertsetes tingimustes. Vältida sissehingamist või kokkupuudet naha või silmadega.

AATOMILISELT MUUDATUD 0D PLATIIN (Pt)

NANOARKITEKTUUR: ~ 5 nm sfäärilised nanoosakesed, ligandivabad

PINDALA (BET): ~550 000 cm²/g

VÄRVUS: Tumehallist mustani nanopulber

PUHTUS: ≥99,9% Pt

KUUMAKINDLUS: Kuni 1768 °C (3214 °F)

PINNA LIGIPÄÄSETAVUS: 100% aktiivne pind, ligandide ja stabilisaatoriteta

RAKENDUSED:

• Kõrgjõudlusega kütuseelementide katalüsaatorid (PEMFC, DMFC)

• Elektrokatalüüs: vesiniku eraldumise reaktsioon (HER), hapniku redutseerimise reaktsioon (ORR)

• Toetatud katalüsaatorid peenkeemilise sünteesi jaoks

• Andurid ja elektrokeemilised seadmed

• Nanomaterjalide põhiuuringud, mis nõuavad otsest Pt pinnainteraktsiooni

• Lisand täiustatud katalüüsimaterjalidele ja nanokomposiitidele

OSAKESTE DISPERSIOON: Hästi dispergeeritud primaarosakesed minimaalse agregatsiooniga inertses säilitamise tingimustes. Optimaalse katalüütilise jõudluse saavutamiseks saab neid edasi dispergeerida kandjatele, näiteks süsinikule, ränidioksiidile või alumiiniumoksiidile.

KATALÜÜTILINE JÕUDLUS:

• Tüüpiline käibesagedus (TOF): 0,5–2 s⁻¹ hapniku redutseerimise reaktsiooni (ORR) jaoks laboritingimustes. See on 2–3 korda kõrgem kui tüüpilistel Pt nanopulbritel stabiliseerivate ligandide või suuremate osakeste suurusega.

• Väga aktiivne vesiniku eraldumise reaktsiooni (HER) ja teiste elektrokatalüütiliste protsesside jaoks tänu maksimaalsele pinna kokkupuutele.

AATOMILISELT MUUDATUD 0D TINAOKSIID (SnOx)

NANOARHITEKTUUR : ~ 1.4 nm sfäärilised osakesed

ERIPIND : 1.486.388 cm²/g

KEELUTSOON : 2,5 - 3,7 eV

VÄRV : KREEM-VALGE / VALGE nanopulber

KUUMAKINDLUS : Up to 1630 °C (2970°F)

RAKENDUSED  : Bohri erutusraadiusega ~ 2,7 nm on need nanoosakesed, mille läbimõõt on ~ 1,4 nm, hästi kvantpiirde vahemikus ja tinaoksiidi kõrgendatud funktsionaalsusega.

Tinaoksiid kui ekstrinsiline pooljuht, millel on lai sagedusvahemik, sobib õhukese kilega nanotehnoloogiaks vedelkristallkuvarite, läbipaistvate küttekehade ja takistite jaoks. Sellel on kõrge gaasiandurivõime. 

See on aktiivne komponent funktsionaalsetes energiasäästvates ja antistaatilistes katetes. juhtivates tintides, magnetilistes, elektroodides ja peegeldumisvastastes katetes päikesepatareides. 

See toimib elektronitranspordi ja aukude blokeerimise kihtidena trükitud elektroonikas. Samuti täidab ta elektronide süstimise ja laengu rekombinatsiooni funktsioone sellistes õhukeses kile süsteemides nagu orgaaniline fotogalvaanika (OPV), orgaanilised valgusdioodid (OLED) ja trükitud fotodetektorid.

Tinaoksiidi nanoosakestel on magnetilised omadused, mis võimaldavad nende kasutamist magnetilises andmesalvestuses ja magnetilises resonantsis. 

Muud rakendused hõlmavad katalüüsi ja hägustit keraamilistes glasuurides. Tänu oma ülikõrgele pindalale on see tõhus peitsimisvahend värvimisprotsessides.